檢索結果:共1筆資料 檢索策略: "水".ckeyword (精準) and ckeyword.raw="化學機械研磨廢水"
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化學機械研磨是目前能夠將250奈米以下製程的8吋晶圓完全平坦化的技術。然而,此程序消耗大量的超純水,即產生大量難以處理之廢水。本研究利用PDA2000來觀察不同高分子對於膠羽在雙重混凝程序中的影響。…